陶氏化学于韩国天安设的三甲基镓新厂动工兴建
2010-11-05
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来源：ledinside
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摘要： 美国化工业龙头陶氏化学(Dow Chemical Co.)子公司Dow Electronic Materials宣布，其位于南韩天安(Cheonan)的三甲基镓(TMG)新厂已经动工兴建，预计2011年初便可投产。
美国化工业龙头陶氏化学(Dow Chemical Co.)子公司Dow Electronic Materials宣布，其位于南韩天安(Cheonan)的三甲基镓(TMG)新厂已经动工兴建，预计2011年初便可投产。
三甲基镓为一种有机金属化学气相沉积(MOCVD)的前驱物质，对于LED以及其他化合物半导体元件的生产极为重要。
Dow Electronic Materials指出，韩国天安新厂，为2010年6月宣布的分阶段扩产计划当中的一环。这项整体扩产计划，年产能可望增加60吨。而美国现有厂区的产能扩增计划正如期进行中，2010年底至2011年Q1间将陆续有新产能开出。
Dow Electronic Materials目前在美国麻州North Andover生产三甲基鎵与其他有机金属前驱物，封装工作则在North Andover与台湾桃园两地进行。陶氏化学与液晶玻璃基板暨光纤大厂康宁(Corning)合资公司Dow Corning Corp.在韩国Jincheon另设有一座专门生产LED用硅胶的工厂。
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